Inline-Gasdiagnostik für Vakuumsysteme

Vakuum verstehen
statt nur Druck messen.

Nur Totaldruck zu messen, reicht nicht.

Ein Druckwert zeigt, dass sich etwas verändert. TOF300 zeigt, was im Vakuum wirklich passiert: Gaszusammensetzung, Lecksignaturen, Kontamination und Prozessdrift — direkt an der Anlage.

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Entwickelt in Jena für Beschichtung, Halbleiter, OEM und F&E.

TOF300 · Live-Spektrum Pump-Down
TOF300-Spektrum
Totaldruck-Basislinie
t = 0.0 s
1–300
amu Massenbereich
10 ms
Messzeit / Spektrum
< 5 cm
Sensorkopf-Länge
2026
Feldtestfähig
Warum Gasdiagnostik

Von „irgendetwas stimmt nicht"
zu „wir sehen, warum".

Heute — nur Totaldruck

Sie sehen den Druck. Aber nicht, warum er sich verändert.

  • Pump-Down verzögert sich — Ursache unklar
  • Kontamination steigt — Quelle unbekannt
  • Lecksignatur vorhanden — Gas unidentifiziert
  • Prozessdrift festgestellt — kein Gasbild
Mit TOF300

Druck und Gaszusammensetzung — gleichzeitig sichtbar.

  • H₂O, N₂, CO₂, HC direkt im Massenkanal
  • Lecksignaturen spezifisch erkennbar
  • Kontaminationsquellen früh lokalisierbar
  • Gasdrift kontinuierlich verfolgbar
Anwendungen

Was im Vakuum wirklich passiert.

TOF300 macht sichtbar, was im Totaldruck verborgen bleibt.

Diagnostik

Pump-Down-Analyse

Sehen Sie live, ob Wasser, Luft oder Kohlenwasserstoffe den Pump-Down verzögern. Statt Vermutungen und Trial-and-Error erhalten Sie Hinweise auf die tatsächliche Ursache.

Lecksuche

Helium-Lecküberwachung

Erkennen Sie Helium direkt im relevanten Massenkanal und überwachen Sie Lecksignaturen kontinuierlich im Prozess — ohne separates Lecksuchgerät.

Sauberkeit

Kontaminations-Monitoring

Erkennen Sie Kohlenwasserstoff-Signaturen frühzeitig, bevor sie zu Ausschuss, erhöhtem Reinigungsaufwand oder Prozessinstabilität führen.

Prozessüberwachung

Gasdrift im laufenden Betrieb

Verfolgen Sie Änderungen der Gaszusammensetzung in Echtzeit und erkennen Sie Drift, Fehldosierung oder unerwünschte Nebengase, bevor der Prozess aus dem Fenster läuft.

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Einordnung

Mehr als ein Drucksensor.
Einfacher als klassische Restgasanalyse.

TOF300 schließt die Lücke zwischen einfacher Totaldruckmessung und aufwendiger klassischer Gasanalyse.

Etabliert
Nur Totaldrucksensor
  • Robust und etabliert
  • Liefert nur Summeninformation
  • Keine Aussage zu Gasart oder Ursache
Neue Kategorie
TOF300
  • Totaldruckmessung und Gasdiagnostik
  • Schwere Kohlenwasserstoffe bis m/z 300
  • Gasanalyse bis 5 × 10⁻³ mbar
  • Kontinuierlich, robust, prozessnah
Nicht nur sehen, dass etwas passiert. Sondern was.
High-End
Klassische Restgasanalyse
  • Hohe Informationstiefe
  • Oft aufwendiger und teurer
  • Nicht immer ideal für robuste Inline-Nähe
Branchen

Wo TOF300 den größten Unterschied macht.

Beschichtung
Kontamination, Ausgasen und Gasdrift früh erkennen — bevor Schichtqualität und Reproduzierbarkeit leiden.
Halbleiter
Gasreinheit, Prozessdrift und schnelle Fehlerdiagnose direkt im sensiblen Prozessschritt.
OEM / Anlagenbau
Diagnosefähigkeit als Produktmerkmal — ohne separates High-End-Analysegerät integrieren zu müssen.
Forschung & Entwicklung
Schneller lernen: Pump-Down, Lecks und Kontamination gezielt interpretierbar.

Sie wollen sehen, was in Ihrem
Prozess wirklich passiert?

Wir suchen Feldtest-Partner aus Beschichtung, Halbleiter, Sondermaschinenbau und Forschung. Wenn Gaszusammensetzung, Lecksignaturen oder Kontamination in Ihrer Anwendung relevant sind, sprechen Sie mit uns.

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